芯片后端signoff的RC corner指什么?

今天想聊一聊STA相关的RC corner的问题。我先简单介绍一些什么是signoff的corner,然后重点聊一聊RC corner。

芯片在工作的时候,不同的工艺、电压、温度会影响芯片的性能,我们不能保证所有芯片都工作在相同的环境中,比如我们的手机在东北要能用,在东北的澡堂子也要能用,所以我们必须要在不同环境下一一检查芯片,确保不会出现错误才行。一般说来,我们只要检查几个极端的环境,让芯片工作最快的时候和最慢的时候都满足要求,那么一般的环境也就可以满足。我们就称这些极端的环境为corner。一般setup检查要对应最快的corner,hold检查要对应最慢的corner。

在众多环境因素中,有一项是net的寄生参数RC值,它可以反映net的delay大小。大学的时候都学过RC电路一阶相应,公式已经不记得了,只记得电路RC值越大,电路充放电越慢,RC越小,充放电越快。所以一般来说,net的电容越小,电阻越小,这段net的delay就越小。

一段net的R值很容易理解,C值怎么算呢?如果我没记错的话,这里的电容包含三个部分:同层金属线间的耦合电容,导线对地电容,还有一个导线侧面对地的边缘电容。

要算delay不能简单只看net上的RC值,毕竟供电是从前面的driving cell来的,因此还要考虑driver的RC。在早期工艺,一般cell的R值都远大于net的R值,与C相乘的时候net的R就可以忽略不计,所以对于一条net来讲,它的C是我们要重点关注的,可以说这时候电容占主导地位。C最大的时候,net delay最大,C最小的时候,net delay最小。由此我们衍生出两个corner:

cbest(Cmin) cworst(Cmax)

讲到这里我突然想强调一点,这两个corner都是针对同一条net而言的,就是说其实芯片的net上的RC值并不是一个定值,在实际工作时会在一个范围内浮动,我们通过抽RC的工具就可以确定这个浮动范围,然后选择上面讲的两个极值作为我们的两个RC corner。

而后,随着工艺的进步,cell的R值不再“远大于”net的R值,尤其对比较长的net,它的电阻已经到了不可忽略的地步,因此再单单选用C的极大极小来代表net delay的极大极小变得不再那么可取,所以我们要综合考虑net的RC情况。具体过程有点复杂,为了方便理解,我就讲一下我自己理解的简化版本。我们要考虑的是(cell电阻+net电阻)*(cell电容+net电容),把这个式子展开后可以得到一项cell电阻*cell电容,可以先忽略,第二项net电阻*net电容,以及cell电阻*net电容+cell电容*net电阻。Net上电容和电阻有一定负相关性,外界环境变化时,net电容如果减小,电阻一般会变大。当net的电阻大到一定成都,cell电阻小到一定程度,net上的RC相乘的积就能占主导地位,这个积的极值就可以代表net的delay的极值。一般来说RC最大的时候,C要比Cmax稍微小一点,R和Rmax差不太多。这样我们就又有两个corner:

Rcbest rcworst

并不是说在先进工艺下cbest cworst corner就没用了,实际上,只有当导线比较长的时候,delay的极值才会发生在rcbest和rcworst的corner上,对于短导线、driver电阻很大的时候,cbest和cworst才能反映delay的极值。所以实际为了稳妥起见,这四个corner我们都会进行signoff。

另外如果考虑DPT(double pattern technology),corner名字后面会再带一个CCworst或者CCbest。考虑OCV的variation还有可能带一个字母T。这些就是比较深入的了,我也要继续学习才行呀。希望今天的文章能对大家有所帮助。

微信公众号:伟酱的芯片后端之路

<think>好的,我现在需要回答用户关于Rcmax、Cmax和CCWORST参数的意义及应用场景的问题。首先,我要确认这些术语的来和上下文。根据用户提供的引用,这些参数属于集成电路设计中的RC Corner分析,用于提取互连线的寄生参数,确保电路在不同工艺条件下的可靠性。 首先,我需要回顾用户提供的引用内容: 引用[1]提到工艺厂商提供的五个RC Corner:Cmax、Cmin、RCmax、RCmin、typical,并出它们的特性。引用[2]详细解释了C-worst(Cmax)和RCmax,说明Cmax对应最大电容,而RCmax则是电阻和电容都处于最大值的极端情况。引用[3]则补充了PVT(工艺、电压、温度)和RC参数的关系,提到CMIN、RCMAX等参数对时序分析的影响。引用[4]似乎与RD算法相关,可能不太相关,但用户的问题集中在RC参数,所以可以暂时忽略。 接下来,我需要分别解释Rcmax、Cmax和CCWORST这三个参数: 1. **Rcmax(RCmax)**:根据引用[2]和[3],RCmax应该的是电阻和电容同时处于最大值的工艺。这种情况下,互连线的延迟最大,因为电阻和电容都增加,导致RC时间常数增大。应用场景包括分析最长路径延迟,确保在最坏情况下电路仍能满足时序要求。 2. **Cmax**:引用[1]和[2]出,Cmax是电容最大的工艺,此时互连电容最大,电阻较小。这会导致信号传输的延迟增加,特别是对于短线(电容主导的情况),用于最大路径分析。 3. **CCWORST**:用户提到的CCWORST可能是一个拼写错误或不同术语。考虑到引用[2]中的“C-worst”,即Cmax,可能CCWORST是C-worst的另一种写法。或者可能涉及其他参数,但根据现有引用,没有直接提到CCWORST。需要假设用户可能的是C-worst,即Cmax。 在应用场景方面,需要结合每个参数的特性。例如,Rcmax用于分析电阻和电容同时最大的情况,适用于关键路径的延迟验证;Cmax用于电容主导的情况,检查电容对时序的影响;而CCWORST可能是C-worst,即与Cmax相同。 需要确保解释时引用正确的来,并在末尾添加引用标识。同时,要使用中文,结构清晰,分点说明每个参数的意义和应用场合。 最后,生成相关问题,例如不同工艺的分析方法、如何选择工艺RC参数与PVT的关系等。确保问题与主题相关,帮助用户深入理解。 现在,整理以上思路,形成结构化的回答,并附上相关问题。</think>### Rcmax、Cmax与CCWORST参数的意义及应用场景 #### 1. **Rcmax(RCmax)** - **意义**: Rcmax是电阻(R)和电容(C)同时达到最大值的工艺Corner)[^3]。此时互连线的电阻和寄生电容均处于极端最大值,导致信号传输的RC延迟最大。这种场景模拟了制造工艺中互连线材料厚度不足(电阻增大)或介质层厚度增加(电容增大)的情况[^1][^2]。 - **应用场景**: 用于分析关键路径的**最大延迟**,确保在最恶劣的RC条件下电路仍能满足时序要求。例如,在高性能芯片设计中,需通过Rcmax验证时钟树或关键数据路径的稳定性[^2]。 #### 2. **Cmax(C-worst)** - **意义**: Cmax表示互连线电容达到最大值的工艺,此时电阻较小(可能接近典型值)[^2]。此场景下,信号延迟主要由电容主导,常见于短线(Short Nets)或密集布线区域。 - **应用场景**: 用于分析**电容敏感型路径**,例如高负载网络或频繁切换的信号线。通过Cmax可检查信号完整性(如串扰)和功耗(因充放电电流增大)[^2]。 #### 3. **CCWORST** - **术语澄清**: "CCWORST"可能是"C-worst"的误写或特定工艺库中的命名变体。根据引用[2],C-worst即Cmax,代表最大电容场景。若代其他参数,需结合具体上下文确认。 - **假设应用场景**: 若与Cmax同义,则应用场景同上;若为独立参数,可能涉及更复杂的耦合电容分析,需参考具体工艺文档。 --- ### 参数选择与设计验证 - **Rcmax vs Cmax**: Rcmax适用于长线(电阻主导),Cmax适用于短线(电容主导)。设计中需根据路径特性选择对应的Corner进行仿真。 - **典型场景**: - **Rcmax**:全局时钟网络、电网格的延迟分析。 - **Cmax**:存储器接口、高速总线的信号完整性验证。 --- ### 相关问题 1. 如何根据电路特性选择RC Corner进行时序分析? 2. 在先进工艺节点中,RC参数对功耗的影响如何量化? 3. RC Corner与PVT(工艺、电压、温度)如何协同影响芯片性能? 4. 为什么短线更关注Cmax,而长线更关注Rcmax? 5. 工艺厂商提供的五个RC Corner(Cmax/Cmin/RCmax/RCmin/typical)分别对应哪些物理变化? --- 通过上述分析,可以全面理解不同RC参数在芯片设计中的关键作用,确保电路在极端条件下仍可靠工作[^2]。
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