LEF和GDS匹配问题

本文介绍了LEF(Library Exchange Format)和GDS在芯片设计中的作用。LEF提供基本的物理信息,用于摆放和绕线;GDS是最终交付给工厂生产的文件,包含所有材料的物理信息。在后端设计中,可能出现LEF和GDS不匹配的问题,导致DRC错误,这需要在设计流程中特别关注并确保两者一致。

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我们在APR的时候,所用到的std cell或者IP、macro都是要吃LEF的,而最终交付生产的时候要生成GDS文件给工厂。那么这两个文件都是什么意思呢?需要注意哪些问题?我今天就来详细探讨一下。

首先,什么是LEF?全称为library exchange format,注意这里的L是library,不要把LIB搞混了,LIB是liberty。它是一种库交换格式,只记录了在APR时所要用到的最基本的物理信息,多一点都不记录。什么意思呢,各位想一想后端设计的时候,我们要摆放连线一个cell或者IP,需要什么信息呢?是只有他的size和出pin的信息的,出pin的信息包括pin的形状,出的层,以及它的mask等。LEF其实就包含这两方面的内容。一个cell、一个ip、一个block,甚至一个chip都可以抽LEF出来。有了LEF,我们就知道了我们要摆的元器件的大小和它的pin,我们就可以摆放和绕线了。所以说LEF是更高层级使用的最基本的物理信息文件。

而GDS就不一样了,它在我们的design设计时其实并不需要,它是我们最终交付给代工厂生产的文件,我们只要记住这一点,这是最终tape out所要用到的最终文件。整个设计流程那么多,用到的文件多如牛毛,但是最后芯片要生产出来,交给机台的就是GDS。如果不考虑dft测试或者其他的验证工作,其实交付出一份好的GDS就宣告设计结束了。那么,GDS会包含哪些信息呢?不知道读者有没有了解芯片制造相关的内

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