本征半导体和杂质半导体

本文介绍了本征半导体的特性,如硅原子的电子结构及本征激发过程,同时阐述了杂质半导体如P型和N型的形成原理,通过掺杂其他元素改变半导体中的多子类型。

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本征半导体:首先硅原子的最外层电子结构为2 8 4,等到或失去4个电子就能形成稳定结构;
本征激发:受温度影响,分离出空穴和电子的过程;
杂质半导体:掺杂其他的元素,例如P、B元素,掺杂为P时。
由于P最外层为5个电子,与硅结合,还剩1电子,此时半导体中多子是电子。所以带负电荷,称为N型半导体;
由于B最外层为3个电子,与硅结合,还剩1空穴,此时半导体中多子是空穴。所以等效成带正电荷,称为P型半导体;

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