半导体物理与器件 第六章

本文介绍了半导体中过剩载流子的产生与复合过程,包括小注入模型下的过剩载流子复合率、少数载流子的衰减时间和寿命。讨论了直接带间复合以及过剩载流子的性质,如扩散长度和稳态空间相关性。

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LEC3

6.0 概述

6.1载流子的产生与复合

分别令Gn0​G_{n0}​Gn0Gp0​G_{p0}​Gp0为电子和空穴的产生率,单位是#/cm3⋅s​cm^{3}·s​cm3s。对于直接带间产生来说,电子和空穴总是成对出现的,因此一定有
Gn0=Gp0 G_{n0}=G_{p0} Gn0=Gp0
分别令Rn0R_{n0}Rn0Rp0R_{p0}Rp0分别为热平衡状态下电子和空穴的复合率,则有
Rn0=Rp0 R_{n0}=R_{p0} Rn0=Rp0
对于热平衡状态来说,电子和空穴的浓度与时间无关,因此产生和复合的概率相等,即有:
Gn0=Gp0=Rn0=Rp0 G_{n0}=G_{p0}=R_{n0}=R_{p0} Gn0=Gp0=Rn0=Rp0

6.1.2 过剩载流子的产生与复合

本章中常用到的一些符号 本章中常用到的一些符号

符号 定义
n0n_{0}n0,p0​p_{0}​p0 热平衡电子和空穴的浓度(与时间无关,通常也与位置无关)
n,p 总电子和空穴的浓度(可能是时间或位置的函数)
δn\delta_{n}δn=n−n0n-n_{0}nn0 过剩电子的浓度(可能是时间或位置的函数)
δp\delta_{p}δp=p−p0​p-p_{0}​pp0 过剩空穴的浓度(可能是时间或位置的函数)
gn′g^{'}_{n}gn,gp′​g_{p}^{'}​gp 过剩电子和空穴的产生率
Rn′R_{n}^{'}Rn,Rp′​R_{p}^{'}​Rp g过剩电子和空穴的复合率
τn0,τp0\tau_{n0},\tau_{p0}τn0,τp0 过剩少数载流子电子和空穴的寿命

假设高能光子射入半导体(外部作用),从而导致价带中的电子被激发跃入导带,这样会产生电子-空穴对。这种额外的电子和空穴就被称为过剩电子和过剩空穴

同样对于直接带间产生来说

一定有
gn′=gp′ g_{n}^{'}=g_{p}^{'} g

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