全化学镀铜制造印刷线路板技术解析
1. 全化学镀概述
全化学镀作为一项可行的技术,已经被认可有一段时间了。它在形成精细线路导体方面特别有用,并且由于与电镀相比具有较高的深镀能力,因此被认为非常适合对小的高纵横比孔进行电镀。不过,自1964年Photocircuits公司商业引入名为CC - 4的加成工艺后,在一段时间内,其应用仅限于制造双面和简单的多层印刷线路板(PWBs)。这是因为化学镀铜的一些物理性能相对较差,例如伸长率仅为2% - 4%,而电镀铜的伸长率可达10% - 15%。
到了20世纪70年代中期,IBM决定将该技术用于制造多层板(MLBs)以封装其当时顶级的大型计算机,这使得人们对化学镀技术的看法开始发生改变。自20世纪80年代初以来,IBM和其他使用全化学镀铜的PWB制造商一直在不断改进化学镀铜的性能。如今,化学镀铜被认为与电镀铜一样可靠,全化学镀技术也在许多应用中得到了广泛应用。
PWB制造中使用化学镀的技术通常被称为加成技术,在本文中,“化学镀”和“加成”这两个词将互换使用。而用于通孔金属化的化学镀铜,即在镀通孔(PTHs)壁上沉积厚度通常为0.3 - 3µm的铜薄膜,这是一种与本文所讨论的技术不同的技术,将不在本文中讨论。
2. 加成工艺及其变体
加成工艺有许多变体,但商业实践中主要有三种基本的加成工艺:
1. 图形电镀加成法
2. 全板电镀加成法
3. 部分加成法
下面将详细介绍这三种基本加成工艺。
3. 图形电镀加成法
图形电镀加成法根据所使用的基础基板不同,可进一步分为三种不同的方法。
超级会员免费看
订阅专栏 解锁全文
68

被折叠的 条评论
为什么被折叠?



