光刻 微影製程(英語:)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含矽晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。 概述 在硅晶片上涂光阻剂的甩胶机 下面以衬底上金属连接的刻蚀为例讲解光刻过程。 首先,通过金属化过程,在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层