纳米压印技术是一种用于微观图案转移的高效方法，尤其适用于制备集成电路和光盘。该技术由周郁发明，解决了光学光刻中减少特征尺寸的技术难题。其工作原理是通过高温条件将印章上的纳米结构复制到大面积基片上，经过进一步加工形成纳米结构和器件。纳米压印技术包括热压印、紫外压印和微接触印刷等工艺方法，并可通过有限单元法和软件模拟优化压印效果。印章的制备涉及电子束、极紫外光等多种先进技术，常见材料有硅、二氧化硅等。
1.应用领域：
宏观方面如印章、刻录光盘；微观方面如制备晶体管和集成电路。由集成电路加工成的
计算机构成现代信息社会的基础。广泛应用于图案转移技术中，其中最多的为光盘的制备。
2.优点：
微纳复制技术只需要制备一个模板就可以廉价、快速的加工出许多复制品
3.光刻技术的诞生：
摩尔的大胆预测：摩尔定律：“每个芯片上集成的元件数平均每18个月将翻一番”
在光学光刻中，通过减少特征尺寸得到高的产量。最小特征尺寸为：
是曝光波长，NA是透镜系统的数值孔径。通过不断减少波长，F会变小，光刻用紫
外光出现了许多技术难题。因此研发了纳米压印技术，该技术为华裔科学家周郁发明的。
4.纳米压印技术的原理：
在微纳米尺度获得复制结构的一种成本低速度快的方法。在高温条件下可以将印章上的
结构按需复制到大的表面上。才拥有那谜团的刚性模具（印章）将基片上的聚合物薄膜压出纳米
级花纹，再对压印件进行常规的刻蚀、剥离等加工，
最低0.47元/天 解锁文章
扫一扫
893
被折叠的 条评论
为什么被折叠?
到【灌水乐园】发言
