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文章平均质量分 78
qq_19067309_zj
这个作者很懒，什么都没留下…
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7纳米制程
是制造制程的一个水準。原创 2023-08-15 17:22:47 · 428 阅读 · 0 评论 -
10纳米制程
是制造制程的一个水準。原创 2023-08-15 17:22:09 · 298 阅读 · 0 评论 -
14纳米制程
是制造制程的一个水平。最早的14纳米器件是由于2014年制造。在14纳米中，使用了多重图形曝光模式。2014年9月，英特尔推出第一代14nm處理器，採用。原创 2023-08-15 17:21:14 · 550 阅读 · 0 评论 -
22纳米制程
是制造制程的一个水平。自2012年4月开始22纳米的消费级CPU产品推出。相比先前的制程，自22纳米制程开始，沟道长度不再成为最为重要的因素。台積電研發出了20nmFinFET製程後，將其更名為16nm製程；比較晶片的表現，台積電16nm的省電性，確實明顯優於三星的14nm。22纳米的后继制程是14纳米。原创 2023-08-15 17:20:43 · 271 阅读 · 0 评论 -
32纳米制程
是制造制程的一个水平。自2010年开始，和AMD开始制造32纳米的芯片产品。32纳米的后继制程是22纳米。原创 2023-08-15 17:20:11 · 182 阅读 · 0 评论 -
45纳米制程
是制造制程的一个水平。自2007年后期，和开始大量制造45纳米的芯片产品。芯片制造厂商使用High-k材料来填充栅极，目的是为了减少漏电。至2007年，和英特尔宣布他们采用了金属栅极解决方案。2020年，擬在上海建設不使用美國技術的晶片工廠，預期工廠將從低端45納米晶片做起。原创 2023-08-15 17:19:36 · 82 阅读 · 0 评论 -
65纳米制程
是制程的一个技術水平。至2007年，、特许半导体和台积电等公司已有能力进行65纳米制程的量產。当制程进入65纳米之时，用于进行光刻的光的波长是193纳米和248纳米。具有低于光波波长的制造厂要求使用一些特殊技术，比如光学邻近校正和相位移掩膜板技术。此外，12英寸晶圓在此制程開始成为主流。原创 2023-08-15 17:18:58 · 143 阅读 · 0 评论 -
90纳米制程是半导体制造制程的一个水平
是制造制程的一个水平，大约于2004年至2005年左右达成。这一制程由当时领先的半导体公司如和所完成。许多厂商使用了193纳米的波长来进行关键层级的光刻。此外，12英寸晶圓在这个制程上成为主流。原创 2023-08-15 17:18:18 · 308 阅读 · 0 评论 -
130纳米制程，又稱0.13微米製程
又稱，是的一个水平，大约于2000年至2001年左右达成。这一制程由当时领先的半导体公司如和所完成。一些最初是由这个制程所制造。其中包括英特尔处理器。这是第一个沟道长度小于用于光刻的光的波长的制程。原创 2023-08-15 17:17:43 · 534 阅读 · 0 评论 -
180纳米制程，又稱0.18微米製程
又稱，是半导体制造制程的一个水平，大约于1999年至2000年左右达成。这一制程是由当时领先的半导体公司如和所完成的。一些CPU最初是由这个制程所制造。其中包括英特尔处理器。这是第一个沟道长度小于用于光刻的光的波长的制程。原创 2023-08-15 17:16:58 · 994 阅读 · 0 评论