结构化激光辐射(SLR):原理、特性与形成方法
1. 结构化激光辐射(SLR)的主要类型
结构化激光辐射是借助经典光学元件、衍射光学元件(DOE)或结构化屏幕获得的空间幅度调制辐射。根据源光束形成的空间几何图形形状,结构化激光辐射的主要元素可分为线结构、平面结构和锥结构激光辐射。这些二维图形是源几何光学光束族形成的光束横截面。
| 结构类型 | 描述 |
|---|---|
| 线结构 | 光束形成线性几何图形 |
| 平面结构 | 光束形成平面几何图形,如激光平面 |
| 锥结构 | 光束形成锥形几何图形 |
通过组合这些主要的 SLR 元素,可以获得适应手头不均匀性结构和正在研究边界层附近物体形状的其他类型 SLR 源。为了诊断体不均匀性,建议从基本源产生“测量网格”。需要注意的是,SLR 横截面以几何图形形式的理想化表示仅在几何光学近似中有效。在处理实际测量设置时,应评估衍射效应导致的误差,以确定该方法的适用范围。例如,平面结构激光辐射(也称为激光平面)实际上是椭圆横截面的像散激光束,其衍射发散由准光学方法确定。
graph LR
A[结构化激光辐射] --> B[线结构]
A --> C[平面结构]
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