木马人

（1）基本流程：（1）制作中模：基础模型： 指的是中模！！中模导出为.obj 格式（跟.fbx格式相比：不会出现模型大小的缩放）高模：将中模导入 在Zbush中制作为高模（2）高模 到 低模：为的就是减少面数，并且需要一个UV（减少面数：其实就是拓扑）模型面数少了才好展uv,(卡边的信息一定要在，不然烘焙出的东西也会丢失细节)（3）烘焙（展UV结束后导出用“八猴”烘焙）将高模和低模 导入烘焙。（4）将烘焙后的资源导入在SP中进行材质绘制（5）将SP处理后的结果导入unity引擎中看

主要是参考毛星云大佬对BRDF的解释隐式遮蔽函数：隐式遮蔽函数 （The Implicit Masking Function）可以和Specular的分母校正因子4（n·l）（n·v）相消为1，虽然不是严格基于物理，但具有非常好的性价比。重要：这样在计算的时候，就通了！！！！！在计算高光项的时候，最后的公式就变成 ： f(I,V) = F * V * D...

PBR中用到的不同的数学模型：（1）BRDF的回顾：（2）Fresnal 项：（3）NDF 法线分布高斯函数：在高斯模糊中用到过，上图中分母的作用： 半球变成单位圆的积分空间内，积分为1即 分母是为了保证归一化的性质Beckmann： 这个公式深入的推导在离线渲染中用到的更深入，此处只是简单的解释（3）阴影-遮蔽函数（Shadowing-Masking）（5）做到这一步 会出现的问题：OpenGL中的PBR的说明...

这是最简单最基础的PBS的效果简单解析一下代码：(1)颜色是守恒的： 此处的守恒是 单纯的颜色值（diffuseColor 和 specualrColor），并没有乘以 漫反射系数 或高光系数(2) 而shader执行到最后的结果 diffuseColor * （diffuse系数） + specularColor *(specualr系数)(3)无论是何种PBR的模型，都是基于上面相同的原则，区别在于计算的细节不同计算的方式不同下面的代码是遵循上面原则，最基本的实现方式：Shader

注意点：1.法线的归一化 normalize (如果shader光照效果怪怪的，请查看是否归一化)2.在计算自发光emission 直接使用的normal : appdata 中的normal 转到世界空间中的normal。emission跟光照没有关系，不受光照的影响(不是所有的地方都有自发光：添加emissionMask)3.在计算直接光照效果 diffuse 和specular的时候， 用切线空间转换到世界空间中的法线4.AO贴图： 只作用在 间接光照中 ： Indirectlight中的

一.Specular Map 高光贴图(反射率贴图)上图分析：（PBR时代的高光贴图(反射率贴图)：指的是反射率）“球4”：相对光滑，反射能力强！ 能看到 更清晰的反射信息（主光源和周围环境信息：所处的环境中有许多的发光源）“球1”：表面粗糙，反射能力弱 ！只能看到主光源的反射信息二.绝对光滑三.反射率贴图 和 颜色贴图的联系蓝色：反射率贴图红色：颜色贴图四.白光照射红色物体非金属：吸收红色外的其他光， 大部分红色光被漫反射出去金属：吸收或改变光（在反射率贴图上改变颜色来调整反射