《炬丰科技-半导体工艺》硅片减薄、分离工艺

本文源自《炬丰科技-半导体工艺》,详细介绍了半导体设备前端生产中的硅片减薄工艺以及后端的芯片分离过程。随着对更薄芯片需求的增加,这些工艺对于降低封装高度和实现多芯片堆叠封装至关重要。文中提到了三点弯曲测试作为评估模具强度的标准,并探讨了CMP和DP工艺在消除背面损伤和提高芯片质量方面的作用。

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》

文章:硅片减薄、分离工艺

编号:JFKJ-21-230

作者:炬丰科技

摘要

  在硅片上形成电路的各种传感器、通信、存储设备等半导体设备(芯片)是必不可少的。一般来说,“细化”和“最小化”都是必需的。另一方面,模具强度的提高对于提高制造工艺的良率和提高最终产品的耐久性也非常重要

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