解耦控制与晶圆表面缺陷模式识别
1. 解耦控制相关
在控制领域,提出了一种基于端口受控哈密顿(PCH)方法的三水箱液位系统(TTLLS)部分解耦控制方法。通过对系统动态方程在时域进行简单变换,并结合 TTLLS 的控制目标,得到了虚拟控制器与目标控制器之间的关系。随后基于 PCH 方法得出解耦控制器的表达式,并证明了系统的稳定性。
1.1 解耦控制器性能
该解耦控制器具有良好的抗干扰性能,与 PCH 方法相比,具有更好的鲁棒性。例如,当对水箱 3 施加干扰时,在控制器的作用下,水箱 1 的液位会发生反向变化,这有力地解释了 PCH 理论中的能量整形。
1.2 方法步骤
- 动态方程变换 :对 TTLLS 的动态方程在时域进行简单变换。
- 确定控制器关系 :结合控制目标,得到虚拟控制器与目标控制器的关系。
- 得出解耦控制器表达式 :基于 PCH 方法,计算出解耦控制器的表达式。
- 证明系统稳定性 :运用相关理论和方法,证明系统在该解耦控制器下的稳定性。
2. 晶圆表面缺陷模式识别
随着半导体行业的发展,晶圆生产需求逐渐增加。然而,晶圆制造过程复杂,任何环节的异常波动都可能导致晶圆表面出现缺陷。准确快速地识别晶圆缺陷模式能够及时反映生产过程中的异常问题。
2.1 传统方法的局限性
早期,一些学者应用统计方法进行晶
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