计算机技术中的关键概念与挑战
1. 晶体管小型化的极限与 CMOS 端点
CMOS 技术正迅速接近小型化的极限,这被称为 CMOS 端点,即 CMOS 与量子物理学交汇的点。如果当前趋势持续,到 2020 年,特征尺寸将降至 10 纳米或更小。不过,“特征尺寸”并非晶体管的实际尺寸,历史上,表征一代工艺的特征尺寸是两根金属线间距的一半(即半间距),而晶体管尺寸更小。例如,在 30 纳米半间距时,栅极长度实际上为 15 纳米。
国际半导体技术路线图(ITRS)在 2007 年预测的特征尺寸显示,栅极长度预计约为半间距的一半。到 2015 年,栅极长度将达到 10 纳米。原子半径为 1 - 2 埃(1 埃 = 0.1 纳米),因此在 10 纳米时,栅极长度将是原子大小的 50 - 100 倍。此时,晶体管沟道中离散粒子数量的影响将变得明显,并以非常复杂的方式极大地影响晶体管的行为。晶体管的行为将越来越不确定,越来越具有概率性。当晶体管的关键尺寸接近原子大小时,其行为将更多地落入量子物理学领域,在该领域中,一切都不确定,二进制逻辑将被概率状态所取代。目前尚不清楚此类器件是否可用。
1.1 练习题
1.1.1 基础机器的改进
考虑对具有加载/存储指令集架构(ISA)的基础机器进行两项改进,其中浮点算术指令由软件处理程序实现。
- 第一项改进:添加硬件浮点算术单元以加速浮点算术指令。估计使用新硬件后,每条浮点指令的执行时间可减少 10 倍。
- 第二项改进:添加更多一级数据缓存以加速加载和存储操作的执行。估计使用与浮点单元相同数量的额外片上缓存空间时,加载和存储操作相对于基础机器可加速 2 倍。
设 $
超级会员免费看
订阅专栏 解锁全文
1万+

被折叠的 条评论
为什么被折叠?



