化学绘图神器InDraw解析：AI识别、3D结构、同位素绘制一网打尽！

InDraw支持AI图像识别结构式、打开cdx文件、输入CAS号/中英文IUPAC名称导入结构式、手动绘制结构式等多种方式，支持创建3D结构（可以测量距离和角度），接下来就介绍一下InDraw的六个常用功能：

一、绘制同位素

InDraw实现了含同位素有机物分子的绘制、命名和计算功能；已经依据最新最全的元素周期表添加了所有同位素，如D（氘，2H）、T（氚，3H）、8C～22C、10N～25N、12O～28O等。

以著名核药PSMA-617 Lu-177为例进行测试，常规（非同位素结构）按惯例绘制，同位素结构绘制的具体步骤：

1. 以左侧工具栏A按钮开始绘制，质量数177设为上标（通过字体编辑浮窗）

2. 选择电荷按钮的e+符号，在177Lu原子上点3下，即增加3个正电荷

3. 通过框选整个分子，点击鼠标右键“组合”-“组合”，组合整个分子即可进行中英文IUPAC命名、计算化学属性等操作。

二、AI图像识别结构式

支持，将图片里的结构式AI识别为可编辑的结构：

1.用任何截图工具（如电脑截图、WPS截图）截取目标结构式区域，复制图片；

2.通过Ctrl+V，将图片粘贴至画布；也可以将图片直接拖进画布中；

3.鼠标右键选择“AI图像识别”，识别生成为可编辑的专业结构式。

7.0 InDraw最新版即将上线！

三、计算分子式、分子量、cLogP/tPSA

1. 点击纵排工具栏“矩形选框”，选中结构式；

2. 点击顶部工具栏中的“计算”，弹框中默认显示该结构的分子式、精确质量、分子量、可以自行选择cLogP/tPSA，还可以选择H受体、H原子、杂原子、重原子、质荷比、元素分析，支持勾选所需内容后粘贴到画布；

3. 点击粘贴，已勾选的内容即可生成于结构式下方。

温馨提示：

1. InDraw支持实时计算分子量、cLogP/tPSA等化学属性，粘贴至画布的化学属性信息会随着化学结构变化自动更新；

2. 在框选一个完整的分子或画布只存在一个分子时，才自动计算cLogP、tPSA等信息，其他情况只计算分子量和质量分布。

四、谱图预测

以核磁NMR为例，具体步骤如下：

1. 点击纵排工具栏“矩形选框”，选中结构式；

2. 点击顶部工具栏中的“核磁图谱预测”，在弹窗中选择需要预测的分析图谱类型（如 1H NMR, 13C NMR, H-H COSY, HSQC），即可查看对应的谱图及化学位移（支持一键将化学位移复制粘贴到 Word/Excel/PPT）。

五、绘制薄层色谱板TLC

点击左侧工具栏中的TLC按钮，在画布中按住左键拖动，可绘制 TLC 板。拖动过程中即控制斑点个数，松开左键即确定当前斑点个数，之后可对TLC板的尺寸进行调整。

1.点的移动

鼠标移到点上，按住左键可以上下移动点。

2.点形状调整

按住 Shift 键，然后鼠标悬停至板上的点，会在点的周围显示上下左右的色块，移动一个方向的色块，进行拖动，可以调整点的形状，也可以直接选择点的形状，实现点的快捷插入。

3.编辑板的显示

在TLC板上点击右键，菜单项里可以进行：

1）显示/隐藏基线，选择后基线可以显示或隐藏

2）显示/隐藏溶剂前沿，选择后溶剂前沿可以显示或隐藏

3）显示隐藏边界线

，选择后边界线可以显示或隐藏

4）添加斑点，选择一列，右键点击添加斑点，在该列上会增加一个点

5）添加样品条，选择一列，右键点击添加样品条后，该列右侧增加一列（自动显示一个斑点）

6）删除样品条，选择一列，右键点击删除样品条后，该列从板上删除

7）复制样品条，选择一列，右键点击复制样品条后，该列右侧复制出相同的一列

4.编辑板上TLC斑点的显示

点击选择一个点，右键菜单项里可以进行：修改斑点样式、更改颜色、复制斑点、删除斑点、显示/隐藏Rf值、设置Rf值

5.编辑备注

可为每列编辑备注，注明哪些是原料、中间态、产物的点。在列激活状态下，右键选择编辑备注，进行设置，备注会随着列的移动而移动。

六、绘制基础图形

1.选择基础图形

InDraw左侧工具栏，点击基础图形，可以在延展工具中选择需要的基础图形，包含：圆、椭圆、矩形、线条、波浪线、不同角度的实线和虚线等，在画布绘制之后可以进行缩放及更改颜色。

2.调整基础图形的参数

在顶部工具栏中，设置→基础图形，可以对基础图形的各项参数进行设置，包括线条宽度、默认长度、默认宽度、单位等。