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电流产生机制
在双极性晶体管(BJT)中,三个电极分别称为发射极(Emitter)、基极(Base)和集电极(Collector),对应的电流即 Ie(发射极电流)、Ib(基极电流)和 Ic(集电极电流)。它们的产生机制与三极管内部的半导体结构和偏置情况(正向/反向偏置)密切相关。下面以 NPN 型三极管为例进行说明(PNP 型原理类似,只是电荷载流子和偏置极性相反)。
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内部结构与结偏置
- NPN 型三极管由三个依次相连的掺杂区:发射区(n 型)、基区(p 型)和集电区(n 型)构成,中间有两个 PN 结:发射结(位于发射极和基极之间)与集电结(位于基极和集电极之间)。
- 在典型的放大工作模式下,发射结(BE结)被正向偏置,集电结(BC结)被反向偏置(NPN型三极管:基极电压大于发射极,集电极电压大于基极,就是发射结正偏集电结反偏)。

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基极电流 Ib 的产生
- 当将发射结(BE)正向偏置时,会有少量电流直接从基极端流入(对于 NPN,为进入基极,PNP 为流出基极),这部分电流就是基极电流 Ib。
- 同时,由于基区掺杂很浅并且非常薄,大部分从发射极注入基区的多数载流子(对于 NPN,是电子)能够穿过基区进入集电区,只有极少部分与基区中的空穴复合后形成基极电流。
- 因此,Ib 主要由两部分组成:
- 维持发射结正向偏置的电流(极小)。
- 与基区中的空穴复合后形成的载流子电流(也比较小)。
- 整体上,基极电流通常远小于发射极电流和集电极电流(如 1:100 或更小)。
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