电化学震荡:N 型负微分电阻的数学推导

以下内容在原有对N 型负微分电阻 (Negative Differential Resistance, NDR) 的定性阐述上,更精确的数学推导及一个典型电路模型示例,以进一步说明为何会出现 di/dE<0\mathrm{d}i/\mathrm{d}E < 0di/dE<0 的“负斜率”以及它与表面动力学/外部电路的关系。


1. 数学推导:从表面动力学到 N 型负微分电阻

在电化学阳极或阴极反应中,宏观电流 iii 常由若干表面过程(吸附/脱附、膜生成/消退、化学中间体反应等)以及电子转移共同决定。一个常见的简化模型是:

i(E)  =  nF r(E,θ(E)), i(E) \;=\; n F \, r\bigl(E, \theta(E)\bigr), i(E)=nFr(E,θ(E)),

其中

  • nnn 为电子转移数,FFF 为法拉第常数;
  • r(E,θ)r(E,\theta)r(E,θ) 表示表观反应速率(单位:mol m−2s−1\mathrm{mol\,m^{-2}s^{-1}}molm2s1);
  • θ(E)\theta(E)θ(E) 可能代表了膜覆盖度吸附态覆盖度的稳态值,在准稳态(或低频扫描)时,它随电位 EEE 而变化。

一个典型的动力学假设是:

r(E,θ)  =  k0 exp⁡ ⁣(α nFRT (E−E0)) [1−θ], r(E,\theta) \;=\; k_0\,\exp\!\Bigl(\alpha\,\frac{nF}{RT}\,(E - E^0)\Bigr)\,\bigl[1 - \theta\bigr], r(E,θ)=k0exp(αRTnF(EE0))[1θ],

并行地,θ(E)\theta(E)θ(E) 则由膜(或吸附)生成速率与去除(溶解、解吸)速率平衡而决定。例如,若膜生成率 ∝exp⁡(β(E−Ecrit))\propto \exp(\beta(E - E_\mathrm{crit}))exp(β(EEcrit)) 而去除率相对较小,则在高电位区膜覆盖度 θ\thetaθ 会随 EEE 快速上升。

将其合并得到:

i(E)  =  i0 exp⁡ ⁣(α nFRT (E−E0)) [1−θ(E)], i(E) \;=\; i_0\,\exp\!\Bigl(\alpha\,\frac{nF}{RT}\,(E - E^0)\Bigr)\,\bigl[1 - \theta(E)\bigr], i(E)=i0exp(αRTnF(EE

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