以下内容在原有对N 型负微分电阻 (Negative Differential Resistance, NDR) 的定性阐述上,更精确的数学推导及一个典型电路模型示例,以进一步说明为何会出现 di/dE<0\mathrm{d}i/\mathrm{d}E < 0di/dE<0 的“负斜率”以及它与表面动力学/外部电路的关系。
1. 数学推导:从表面动力学到 N 型负微分电阻
在电化学阳极或阴极反应中,宏观电流 iii 常由若干表面过程(吸附/脱附、膜生成/消退、化学中间体反应等)以及电子转移共同决定。一个常见的简化模型是:
i(E) = nF r(E,θ(E)), i(E) \;=\; n F \, r\bigl(E, \theta(E)\bigr), i(E)=nFr(E,θ(E)),
其中
- nnn 为电子转移数,FFF 为法拉第常数;
- r(E,θ)r(E,\theta)r(E,θ) 表示表观反应速率(单位:mol m−2s−1\mathrm{mol\,m^{-2}s^{-1}}molm−2s−1);
- θ(E)\theta(E)θ(E) 可能代表了膜覆盖度或吸附态覆盖度的稳态值,在准稳态(或低频扫描)时,它随电位 EEE 而变化。
一个典型的动力学假设是:
r(E,θ) = k0 exp (α nFRT (E−E0)) [1−θ], r(E,\theta) \;=\; k_0\,\exp\!\Bigl(\alpha\,\frac{nF}{RT}\,(E - E^0)\Bigr)\,\bigl[1 - \theta\bigr], r(E,θ)=k0exp(αRTnF(E−E0))[1−θ],
并行地,θ(E)\theta(E)θ(E) 则由膜(或吸附)生成速率与去除(溶解、解吸)速率平衡而决定。例如,若膜生成率 ∝exp(β(E−Ecrit))\propto \exp(\beta(E - E_\mathrm{crit}))∝exp(β(E−Ecrit)) 而去除率相对较小,则在高电位区膜覆盖度 θ\thetaθ 会随 EEE 快速上升。
将其合并得到:
i(E) = i0 exp (α nFRT (E−E0)) [1−θ(E)], i(E) \;=\; i_0\,\exp\!\Bigl(\alpha\,\frac{nF}{RT}\,(E - E^0)\Bigr)\,\bigl[1 - \theta(E)\bigr], i(E)=i0exp(αRTnF(E−E

最低0.47元/天 解锁文章
73

被折叠的 条评论
为什么被折叠?



